光刻機(jī)NX-B200/1000/2000/2500/2600納米壓印光刻機(jī)、 簡稱NIL 、NIL光刻機(jī)、軟紫外納米壓印，熱壓印, 紫外納米壓印步進(jìn)閃光壓印,
光刻機(jī)NX-B200/1000/2000/2500/2600納米壓印光刻機(jī)、 簡稱NIL 、NIL光刻機(jī)、軟紫外納米壓印，熱壓印, 紫外納米壓印步進(jìn)閃光壓印, 軟模具的, 熱和紫外復(fù)合壓印工藝 逆壓印, 激光輔助直接壓印, 連續(xù)壓印，滾壓印, 基底完整壓印光刻, 軟分子尺度壓印, 超聲納米壓印, 靜電輔助納米壓印, 流體介電泳和電毛細(xì)力驅(qū)動(dòng)納米壓印
光刻機(jī)NX-B200/1000/2000/2500/2600
型號(hào) | 選購說明 |
NX-A10 小型臺(tái)式基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印或紫外壓印） | zui大50毫米直徑壓印面積 熱壓印 加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘 |
NX-A20 小型臺(tái)式基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印和紫外壓印） | zui大50毫米直徑壓印面積 熱壓印和紫外壓印 加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘 58mW/cm2紫外LED光源；365納米或395納米波長可選；全自動(dòng)化控制 |
NX-B100 多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印或紫外壓印） | zui大75毫米直徑壓印面積 熱壓印 加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘 |
NX-B200 多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印和紫外壓印） | zui大75毫米直徑壓印面積 熱壓印和紫外壓印 加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘 58mW/cm2紫外LED光源；365納米或395納米波長可選；全自動(dòng)化控制 |
NX-1000 多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印或紫外壓印） | 標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選 熱壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘 |
NX-2000 多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印和紫外壓印） | 標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選 熱壓印和紫外壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘 200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動(dòng)化控制 |
NX-2500 多功能整片基板帶對(duì)準(zhǔn)功能多層次的納米壓印系統(tǒng) | 標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選 熱壓印和紫外壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘 200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動(dòng)化控制 帶對(duì)準(zhǔn)功能（亞1微米對(duì)準(zhǔn)精度） 多層次的納米壓印 對(duì)準(zhǔn)模塊 <1μm 3σ對(duì)準(zhǔn)準(zhǔn)確率 X, Y, Z, Theta平臺(tái) 分場(chǎng)光學(xué)和CCD相機(jī) |
NX-2600 多功能整片基板帶對(duì)準(zhǔn)功能多層次的納米壓印和高分辨率光刻系統(tǒng) 可選背面對(duì)準(zhǔn) | 標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選 熱壓印和紫外壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘 200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動(dòng)化控制 帶對(duì)準(zhǔn)功能（亞1微米對(duì)準(zhǔn)精度） 多層次的納米壓印 對(duì)準(zhǔn)模塊 <1μm 3σ對(duì)準(zhǔn)準(zhǔn)確率 X, Y, Z, Theta平臺(tái) 分場(chǎng)光學(xué)和CCD相機(jī) 標(biāo)配5”模板,標(biāo)配4”直徑基板 ? 其他尺寸可以提供500瓦紫外水銀燈光源
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